发明名称 石墨膜之制造方法
摘要 于本发明中,藉由缩小至自高分子膜之分解初期的热分解起始温度以上之温度即升温下限值至高分子膜之热分解中间温度以下之温度即升温上限值之温度范围而对高分子膜实施特殊之热处理,可抑制其后之石墨化处理时之发泡,即便加快石墨化升温速度,亦可获得优质之石墨膜。
申请公布号 TWI468342 申请公布日期 2015.01.11
申请号 TW101110433 申请日期 2012.03.26
申请人 钟化股份有限公司 日本 发明人 太田雄介;稻田敬;三代真琴;西川泰司
分类号 C01B31/04;C08J5/18 主分类号 C01B31/04
代理机构 代理人 陈长文 台北市松山区敦化北路201号7楼
主权项 一种石墨膜之制造方法,其特征在于:其系藉由对高分子膜进行热处理而制造石墨膜之方法,且包括于自高分子膜之热分解起始温度以上之温度即升温下限值至高分子膜之热分解中间温度以下之温度即升温上限值之温度范围内,一面将长条之高分子膜连续地供给至加热处理装置,一面以5℃/min以上之升温速度进行热处理之膜改质步骤,其后,于2000℃以上之温度下进行热处理,其中上述高分子膜之双折射未达0.13,其中上述升温上限值为605℃以下,其中继上述膜改质步骤之热处理后,于自上述升温上限值至高分子膜之热分解起始温度以下之温度的温度范围内,以10℃/min以上之冷却速度加以冷却。
地址 日本