| 摘要 |
<p>Applikationsvorrichtung (1) zum elektrostatisch unterstützten Aufbringen eines Beschichtungsmediums (M) auf ein elektrisch geerdetes Beschichtungsobjekt (100), mit einer Mehrzahl von Komponenten (20, 30, 40, 50, 55, 60) zum Bereitstellen und Steuern des Beschichtungsmediums (M) und einer Hochspannungsquelle (10) zum Erzeugen eines auf das Beschichtungsobjekt bezogenen elektrostatischen Feldes (ESF1) zum elektrostatischen Aufladen des Beschichtungsmediums, um dieses auf das Beschichtungsobjekt aufzubringen, wobei in einem Einflussbereich der Hochspannungsquelle, in dem die Ausbildung eines auf die Applikationsvorrichtung bezogenen elektrostatischen Feldes möglich ist, die Komponenten zum Bereitstellen und Steuern des Beschichtungsmediums ausschließlich aus elektrisch nicht leitendem Material bestehen, und wobei jegliches Metallmaterial dieser Komponenten so angeordnet ist, dass sich dieses außerhalb des Einflussbereichs der Hochspannungsquelle befindet. Auf diese Weise wird die Ausbildung eines weiteren elektrostatischen Feldes zwischen Hochspannungsquelle und Applikationsvorrichtung und damit ein Ablagern des Beschichtungsmediums auf der Applikationsvorrichtung verhindert.</p> |
