发明名称 |
同步辐射能量稳定装置及方法 |
摘要 |
本发明提供一种同步辐射能量稳定装置及方法。该同步辐射能量稳定装置,包括双晶单色器,还包括电离室、金属薄膜、荧光探测器、控制模块,所述电离室位于所述双晶单色器的出射光路上,所述金属薄膜位于所述电离室的出射光路上,且所述金属薄膜相对于所述电离室的出射光路倾斜设置,所述荧光探测器的探测端朝向所述金属薄膜,用于获取从所述电离室出射的光照射到所述金属薄膜上产生的荧光强度,所述控制模块用于根据所述荧光强度所对应的控制系数与转动阈值之间的关系,对双晶单色器的转动进行控制。该方案该方案实现了边实验边进行能量的监测与调整,保证了工作的稳定性,确保了数据收集的正确性。 |
申请公布号 |
CN104267055A |
申请公布日期 |
2015.01.07 |
申请号 |
CN201410532846.X |
申请日期 |
2014.10.10 |
申请人 |
中国科学院高能物理研究所 |
发明人 |
常广才;王文佳;石泓;刘鹏 |
分类号 |
G01N23/223(2006.01)I |
主分类号 |
G01N23/223(2006.01)I |
代理机构 |
北京志霖恒远知识产权代理事务所(普通合伙) 11435 |
代理人 |
孟阿妮;郭栋梁 |
主权项 |
一种同步辐射能量稳定装置,包括双晶单色器,还包括电离室、金属薄膜、荧光探测器、控制模块;所述电离室位于所述双晶单色器的出射光路上,所述金属薄膜位于所述电离室的出射光路上,且所述金属薄膜相对于所述电离室的出射光路倾斜设置;所述荧光探测器的探测端朝向所述金属薄膜,用于获取从所述电离室出射的光照射到所述金属薄膜上产生的荧光强度;所述控制模块,用于根据所述荧光强度所对应的控制系数与转动阈值之间的关系,对双晶单色器的转动进行控制,所述控制系数为<img file="FDA0000584006020000011.GIF" wi="186" he="154" />其中,<img file="FDA0000584006020000012.GIF" wi="405" he="145" />I<sub>0</sub>为电离室标准入射光强度,I<sub>f0</sub>为标准入射光照射到薄膜上产生的标准荧光强度,I为电离室实时入射光强度,I<sub>f</sub>为实时入射光照射到金属薄膜上产生的实时荧光强度。 |
地址 |
100049 北京市石景山区玉泉路19号(乙)高能物理研究所 |