发明名称 平面基板之表面状态检查方法以及使用有此之平面基板之表面状态检查装置
摘要 一种:能够对于在被形成有电子元件等之平面基板上所产生的缺陷之种类作辨识的平面基板之表面状态检查方法、和利用有该方法之表面状态检查装置。 在针对被形成有电子元件等之平面基板之表面的缺陷种类是身为凹状缺陷或者是凸状缺陷之何者一事进行检测的平面基板之表面状态检查装置中,系具备有:投光系,系将前述检测光,相对于前述平面基板之基板法线而以特定之射入角来照射至照射点上;和受光系,系被设置在与投光系相反侧之空间中,并受光前述散射光;和复数之散射光检测器,系检测出散射光;和受光范围限制手段,系以不会使相同之前述散射光射入至各散射光检测器中的方式,而对于受光范围作限制;和波形比较判定手段,系对于藉由各散射光检测器所检测出之散射光强度的波形作比较,并判定平面基板之缺陷种类是身为凹状缺陷或者是凸状缺陷之何者。
申请公布号 TWI534425 申请公布日期 2016.05.21
申请号 TW103132064 申请日期 2014.09.17
申请人 山梨技术工房股份有限公司 发明人 高石修二;名仓义信;吾妻俊树;浅川和宣
分类号 G01N21/956(2006.01) 主分类号 G01N21/956(2006.01)
代理机构 代理人 林志刚
主权项 一种平面基板之表面状态检查装置,系使藉由投光系所照射之检测光,在被载置于平台之上的平面基板之表面上进行扫描,并且一面以特定之间隔来朝向与前述扫描方向相正交之轴方向进送,一面藉由受光系来检测出从表面而来之散射光,再根据所检测出的从受光系而来之输出讯号,而检查出前述平面基板之表面的缺陷种类是身为凹状缺陷或者是凸状缺陷之何者,该平面基板之表面状态检查装置,其特征为,系具备有:投光系,系将前述检测光,对于前述平面基板之表面,来相对于前述平面基板之基板法线而以特定之射入角来照射至照射点上;和受光系,系被设置在相对于前述基板法线而与前述投光系相反侧之空间中,并受光前述散射光;和复数之散射光检测器,系检测出前述受光系所受光的散射光;和受光范围限制手段,系以不会使相同之前述散射光射入至各前述散射光检测器中的方式,而对于受光范围作限制;和波形比较判定手段,系对于藉由各前述散射光检测器所检测出之散射光强度的波形作比较,并判定平面基板之缺陷种类是身为凹状缺陷或者是凸状缺陷之何者。
地址 日本