首页 产品 黄页 商标 征信
会员服务 注册 登录 
全部
 |
企业名
 |
法人/股东/高管
 |
品牌/产品
 |
地址
 |
经营范围
发明名称 CHEMICAL VAPOR DEPOSITION REACTOR AND METHOD FOR PREPARING OF POLYSILICON
摘要
申请公布号 KR20150000819(A) 申请公布日期 2015.01.05
申请号 KR20140049390 申请日期 2014.04.24
申请人 HANWHA CHEMICAL CORPORATION 发明人 PARK, SUNG EUN;HAN, JOO HEE;PARK, JEA SUNG
分类号 C23C16/44;C23C16/22 主分类号 C23C16/44
代理机构 代理人
主权项
地址
您可能感兴趣的专利
©  2024 传众  czvv.com