发明名称 半导体元件及其制造方法
摘要 本发明提供一种于近红外~红外区域量子效率或感度较高之半导体元件等。本发明之半导体元件具备:基板;复数对多重量子井构造,其等位于基板之上方,且以a层与b层作为1对;及结晶调整层,其位于基板与多重量子井构造之间;且结晶调整层包含:第1调整层,其包含与基板相同之材料,且接触于该基板;及第2调整层,其包含与多重量子井构造之a层或b层相同之材料,且接触于多重量子井构造。
申请公布号 TW201501279 申请公布日期 2015.01.01
申请号 TW103114266 申请日期 2014.04.18
申请人 住友电气工业股份有限公司 发明人 柴田馨;秋田胜史;藤井慧;石塚贵司
分类号 H01L27/14(2006.01);H01L31/10(2006.01) 主分类号 H01L27/14(2006.01)
代理机构 代理人 陈长文
主权项
地址 日本