| 摘要 |
노광 장치 (EX) 는, 기판 (P) 을 유지하여 이동 가능한 기판 스테이지 (PST) 와, 기판 스테이지 (PST) 에 유지된 기판 (P) 상의 얼라인먼트 마크 (1) 를 검출하는 것과 함께, 기판 스테이지 (PST) 에 형성된 기준 마크 (PFM) 를 검출하는 기판 얼라인먼트계 (5) 와, 기판 스테이지 (PST) 에 형성된 기준 마크 (MFM) 를 투영 광학계 (PL) 를 통해서 검출하는 마스크 얼라인먼트계 (6) 를 구비한다. 기판 얼라인먼트계 (5) 를 사용하여 기판 스테이지 (PST) 에 형성된 기준 마크 (PFM) 를 액체 없이 검출하는 것과 함께, 마스크 얼라인먼트계 (6) 를 사용하여 기판 스테이지 (PST) 에 형성된 기준 마크 (MFM) 를 투영 광학계 (PL) 와 액체를 통해서 검출하여, 기판 얼라인먼트계 (5) 의 검출 기준 위치와 패턴 이미지의 투영 위치와의 위치 관계를 구한다. 액침 노광에 있어서 얼라인먼트 처리를 정확하게 실시할 수 있다. |
