发明名称 用于触控面板的透明体及制造透明体的方法与系统
摘要 提供了一种制造用于触控屏幕面板的透明体的工艺。所述工艺包括:沉积第一透明层堆迭(12)于透明基板(14)之上,其中所述第一透明层堆迭(12)至少包括具有第一折射率的第一介电膜(16)和具有第二折射率的第二介电膜(18),第二折射率不同于第一折射率;提供结构化的透明导电膜(22),使得第一透明层堆迭(12)和透明导电膜(22)依此顺序配置在基板(14)上,且其中结构化的透明导电膜具有100欧姆/平方(Ohm/square)或更低的片电阻;以及沉积第二透明层堆迭于透明导电膜之上,其中所述第二透明层堆迭至少包括具有第三折射率的第三介电膜,和具有第四折射率的第四介电膜或透明黏着物,其中第一透明层堆迭、结构化的透明导电膜和第二透明层堆迭依此顺序提供。
申请公布号 CN104246667A 申请公布日期 2014.12.24
申请号 CN201280071777.6 申请日期 2012.03.30
申请人 应用材料公司 发明人 J·格里尔梅耶;T·W·齐尔鲍尔
分类号 G06F3/041(2006.01)I;H01J37/34(2006.01)I 主分类号 G06F3/041(2006.01)I
代理机构 上海专利商标事务所有限公司 31100 代理人 陆勍
主权项 一种制造用于触控屏幕面板的透明体(10)的工艺,所述工艺包括:沉积第一透明层堆迭(12)于一透明基板(14)之上,其中所述第一透明层堆迭(12)至少包括第一介电膜(16)和第二介电膜(18),所述第一介电膜(16)具有第一折射率,所述第二介电膜(18)具有第二折射率,所述第二折射率不同于所述第一折射率;提供结构化的透明导电膜(22),使得所述第一透明层堆迭(12)和所述透明导电膜(22)是依此顺序配置在所述基板(14)之上,且其中结构化的所述透明导电膜对应100欧姆/平方或更低的片电阻;以及沉积第二透明层堆迭于所述透明导电膜之上,其中所述第二透明层堆迭是选自由下列组成的群组:层堆迭,其中所述层堆迭包括第三介电膜,所述第三介电膜具有梯度(gradient)折射率,所述梯度折射率从第三折射率至不同于所述第三折射率的第四折射率,及层堆迭,其中所述层堆迭包括:至少第三介电膜,具有第三折射率,及第四介电膜或透明黏着物,分别具有不同于所述第三折射率的第四折射率,其中所述结构化的透明导电膜和所述第二透明层堆迭是依此顺序提供。
地址 美国加利福尼亚州