硅片的清洗机构

摘要

一种硅片的清洗机构。此硅片清洗机构包含第一酸槽、碱槽、第一清洗槽、第一冲洗装置、排水阀、第二清洗槽、第二冲洗装置以及泵装置。第一清洗槽位于第一酸槽与碱槽之间。第一冲洗装置设于第一清洗槽中。第一清洗槽适用以承接利用第一冲洗装置进行清洗后的第一清洗液。排水阀与第一清洗槽连通。第一清洗液经排水阀排出。第二清洗槽位于第一清洗槽与碱槽之间。第二冲洗装置设于第二清洗槽中。第二清洗槽适用以承接利用第二冲洗装置进行清洗后的第二清洗液。泵装置适用以将第二清洗液循环到第一清洗槽供第一冲洗装置使用。

主权项

一种硅片清洗机构，其特征在于包含：一第一酸槽；一碱槽；一第一清洗槽，位于所述第一酸槽与所述碱槽之间；一第一冲洗装置，设于所述第一清洗槽中，其中所述第一清洗槽适用以承接利用所述第一冲洗装置进行清洗后的一第一清洗液；一排水阀，与所述第一清洗槽连通，其中所述第一清洗液经所述排水阀排出；一第二清洗槽，位于所述第一清洗槽与所述碱槽之间；一第二冲洗装置，设于所述第二清洗槽中，其中所述第二清洗槽适用以承接利用所述第二冲洗装置进行清洗后的一第二清洗液；以及一泵装置，适用以将所述第二清洗液循环到所述第一清洗槽供所述第一冲洗装置使用。