发明名称 一种双层石墨烯隧穿场效应晶体管及其制备方法
摘要 一种双层石墨烯隧穿场效应晶体管,底栅介质层位于底栅电极的上方,双层石墨烯有源区位于底栅介质层的上方,金属源电极和金属漏电极分别在双层石墨烯有源区的两端,且各覆盖部分双层石墨烯有源区,金属源电极与金属漏电极选取不同材料,对于n型器件,金属源电极的功函数较大,与其接触的石墨烯呈p型掺杂,金属漏电极的功函数较小,与其接触的石墨烯呈n型掺杂;p型器件的电极与n型器件相反;顶栅介质层覆盖在金属源电极、金属漏电极与两电极之间的石墨烯上,顶栅电极位于顶栅介质层的上方,且与金属源电极和金属漏电极都交叠。该器件制备工艺简单,与传统的双层石墨烯场效应晶体管相比,此隧穿场效应晶体管的金属源电极和漏电极分别完成。
申请公布号 CN104241378A 申请公布日期 2014.12.24
申请号 CN201410458211.X 申请日期 2014.09.10
申请人 北京大学 发明人 黄如;王佳鑫;黄芊芊;吴春蕾;朱昊;赵阳
分类号 H01L29/78(2006.01)I;H01L21/336(2006.01)I;H01L29/41(2006.01)I;H01L29/43(2006.01)I 主分类号 H01L29/78(2006.01)I
代理机构 北京万象新悦知识产权代理事务所(普通合伙) 11360 代理人 朱红涛
主权项 一种双层石墨烯隧穿场效应晶体管,其特征是,包括一个底栅电极(1)、一个底栅介质层(2)、一个双层石墨烯有源区(5)、一个金属源电极(6)、一个金属漏电极(7)、一个顶栅介质层(8)和一个顶栅电极(9);所述底栅介质层(2)位于底栅电极(1)的上方;双层石墨烯有源区(5)位于底栅介质层(2)的上方;金属源电极(6)和金属漏电极(7)分别在双层石墨烯有源区(5)的两端,且各覆盖部分双层石墨烯有源区(5);金属源电极(6)与金属漏电极(7)选取不同材料,对于n型器件,金属源电极(6)的功函数较大,与其接触的石墨烯呈p型掺杂,金属漏电极(7)的功函数较小,与其接触的石墨烯呈n型掺杂;而p型器件的电极与n型器件相反,即:金属源电极(6)的功函数较小,金属漏电极(7)的功函数较大;所述的功函数较大指的是功函数大于5.4eV,所述的功函数较小指的是功函数小于4.5eV;顶栅介质层(8)覆盖在金属源电极(6)、金属漏电极(7)与两电极之间的石墨烯上,顶栅电极(9)位于顶栅介质层(8)的上方,且与金属源电极(6)和金属漏电极(7)都交叠,各交叠的长度均大于100nm。
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