| 摘要 |
<p>침지 리소그래피 장치가 개시되며, 이는 기판 상으로 패터닝된 방사선 빔을 지향하도록 구성된 투영 시스템, 및 기판 또는 기판 테이블 또는 둘 모두와 투영 시스템 사이에 정의된 공간에 침지 액체를 공급하고 한정하도록 구성된 액체 핸들링 시스템을 갖는다. 기판 및/또는 기판 테이블과 액체 핸들링 시스템 간의 상대 이동 방향, 및/또는 액체 핸들링 시스템에 대한 기판 및/또는 기판 테이블의 위치에 의존하여, 액체 핸들링 시스템에 대한 기판 및/또는 기판 테이블의 이동 시, 기판의 상부면에 대한 액체 핸들링 시스템의 하부면의 각도를 조정하도록 제어기가 제공된다.</p> |
