发明名称 |
一种基于横向PNP结构的双向ESD保护器件 |
摘要 |
本发明公开了一种基于横向PNP结构的双向ESD保护器件,可用于片上ICESD保护电路。保护器件主要由P型衬底,第一N型阱,第二N型阱,第一P+注入区,第二P+注入区,第一N+注入区,第二N+注入区,第三P+注入区,第四P+注入区和若干场氧隔离区构成;该类型保护器件在正向或负向ESD脉冲作用下,内部横向PNP结构的反向PN结被触发导通,同时另一个N阱中的正向PN结导通,会产生由一个横向PNP晶体管以及一个正向二极管串联构成的ESD电流泄放路径。通过分别拉伸两个PNP的基区宽度,可以单独改变正向或负向ESD脉冲来临时器件的维持电压,提高器件工作的灵活性。 |
申请公布号 |
CN104241274A |
申请公布日期 |
2014.12.24 |
申请号 |
CN201410439235.0 |
申请日期 |
2014.08.30 |
申请人 |
电子科技大学 |
发明人 |
纪长志;刘志伟;繆家斌;刘聂;张国彦;刘毅;杨雪娇;田瑞;刘凡 |
分类号 |
H01L27/02(2006.01)I |
主分类号 |
H01L27/02(2006.01)I |
代理机构 |
四川君士达律师事务所 51216 |
代理人 |
芶忠义 |
主权项 |
一种基于横向PNP结构的双向ESD保护器件,其特征在于,包括P型衬底(101),所述P型衬底内设有第一N型阱(102),第二N型阱(103),第一N型阱(101)内注有第一P+注入区(104),第二P+注入区(105),第一N+注入区(106),第二N型阱(103)内注有第二N+注入区(107),第三P+注入区(108),第四P+注入区(109),其中:所述P型衬底(101)、第一N型阱(102)和第二N型阱(103)上均覆盖有氧化隔离层,从左到右依次是第一氧化隔离层(110)、第二氧化隔离层(111)、第三氧化隔离层(112)、第四氧化隔离层(113)和第五氧化隔离层(114)。 |
地址 |
610054 四川省成都市成华区建设北路二段4号 |