发明名称 |
气体处理装置 |
摘要 |
一种气体处理装置,包含一个第一进气管、至少一个第一处理单元、一个第二进气管、至少一个第二处理单元及至少一个设置于该第二处理单元的第二加热器。该第一处理单元包括一个与该第一进气管连通的第一处理腔、一个设置于该第一处理腔的第一触媒,及一个与该第一处理腔相连通的第一出气管。该第二处理单元环绕该第一处理单元并包括一个与该第二进气管连通的第二处理腔、一个设置于该第二处理腔的第二触媒,及一个与该第二处理腔相连通的第二出气管。通过环绕包覆该第一处理单元的特殊结构,该第二处理单元反应时所放出的热量能供给该第一处理单元反应所需。 |
申请公布号 |
CN204034558U |
申请公布日期 |
2014.12.24 |
申请号 |
CN201420395022.8 |
申请日期 |
2014.07.17 |
申请人 |
台禹科机股份有限公司 |
发明人 |
吴宗学;吴康硕 |
分类号 |
B01D53/86(2006.01)I;B01D53/58(2006.01)I |
主分类号 |
B01D53/86(2006.01)I |
代理机构 |
北京泰吉知识产权代理有限公司 11355 |
代理人 |
张雅军 |
主权项 |
一种气体处理装置,其特征在于:该气体处理装置,包含:一个第一进气管;至少一个第一处理单元,包括一个与该第一进气管相连通的第一处理腔、一个设置于该第一处理腔的第一触媒,及一个与该第一处理腔相连通的第一出气管;一个第二进气管;至少一个第二处理单元,环绕该第一处理单元并包括一个与该第二进气管相连通的第二处理腔、一个设置于该第二处理腔的第二触媒,及一个与该第二处理腔相连通的第二出气管,该第二处理腔与该第一处理腔不相连通;及至少一个第二加热器,设置于该第二处理单元。 |
地址 |
中国台湾新竹市 |