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Entladungsplasma-Bearbeitungsanlage zum Bearbeiten eines Objekts durch Ausnutzung von Plasma in einer Vakuumkammer, wobei die Anlage aufweist: Magnetfeld erzeugende Mittel zum Erzeugen einer magnetischen Neutrallinie, die durch eine Aufeinanderfolge von magnetfeldfreien Positionen gebildet wird, die kontinuierlich in der Vakuumkammer vorhanden sind, und elektrisches Feld erzeugende Mittel zum Anwenden eines hochfrequenten elektrischen Feldes auf die Neutrallinie, mit denen ein Entladungsplasma in einem Raum erzeugt wird, in dem die magnetische Neutrallinie verläuft, wobei die das elektrische Feld erzeugenden Mittel vom kapazitiven Feld-Typ sind, wobei sie ein Paar von scheiben- oder ringförmigen Elektroden aufweisen, die in der Vakuumkammer angeordnet sind, und wobei die magnetische Neutrallinie derart durch die das Magnetfeld erzeugenden Mittel erzeugt wird, dass sie in dem Raum zwischen den Elektroden ausgebildet wird, und das Paar bildende scheiben- oder ringförmige Elektroden jeweils an eine hochfrequente Stromquelle angeschlossen sind. |
