发明名称 用于检查图案化样本之光学系统及方法(一)
摘要 所提出的一种光学检查系统系定义了一检查平面,以检查位于该检查平面中的一图案化样本。该系统包含一照射单元和一光线收集单元;该照射单元定义了对该检查平面呈一特定角度取向之一照射路径,该光线收集单元定义了对该检查平面呈一特定角度取向之一收集路径。该照射单元包含一照射遮罩,该照射遮罩位于关于该检查平面之一第一光谱平面中且包含一第一预定不连续图案之一光线穿透区域阵列。该光线收集单元包含一收集遮罩,该收集遮罩位于关于该检查平面之一第二光谱平面中,该第二光谱平面系与该第一光谱平面共轭,该收集遮罩包含一第二预定图案之分隔光线阻挡区域。该第一与第二图案的特征排列系根据从该图案化样本沿着由该照射与收集通道的角度取向所定义之收集通道的一绕射反应而加以选择,使得该第一图案之该光线穿透区域对该第二图案之该光线阻挡区;域系呈一预定对准。
申请公布号 TWI465714 申请公布日期 2014.12.21
申请号 TW101135126 申请日期 2012.09.25
申请人 应用材料以色列公司 以色列 发明人 巴尔拉提凯尤夫;高佛拉尔艾杜;梅许拉奇多伦;贝肯卡比
分类号 G01N21/956 主分类号 G01N21/956
代理机构 代理人 蔡坤财 台北市中山区松江路148号11楼;李世章 台北市中山区松江路148号11楼
主权项 一种用于图案化样本之光学检查的方法,该方法包含:选择于共轭平面中分别定位于照射通道及收集通道之照射遮罩及收集遮罩,该等共轭平面为关于由一受检查样本所定义的一检查平面之光谱平面,其中该选择包含:根据来自该受检查样本对于一给定的照射亮点之照射的一已知绕射反应,选择用于该照射遮罩及该收集遮罩之第一及第二空间图案之特征,使得该等第一及第二空间图案系由光线穿透区及光线阻挡区所形成,分别定义一照射亮点之一尺寸及该照射通道之一数值孔径,以及一光线收集区之一尺寸;关于该检查平面而提供该照射通道之一预定角度取向,及关于该检查平面而提供该收集通道之一预定角度取向,藉此使得由通过该照射遮罩之光所产生的第一结构光的光分量与由通过该收集遮罩之光所产生的第二结构光的光分量之间的间隔呈一预定对准,决定由该第二结构光的该等光分量所定义之收集区与该照射亮点的该尺寸之间的一所需关系;以沿着该照射通道经由该照射遮罩传播的光照射一样本,该照射通道具有该数值孔径以及关于该检查平面之该预定角度取向,藉此于该样本上产生该照射亮点并自该样本产生该绕射反应;沿着该收集通道经由该收集遮罩收集由该样本所返回之光,该收集通道具有关于该检查平面之该预定角度取向,并允许该收集的光传播至一检测平面。
地址 以色列