发明名称 |
微影装置及元件制造方法 |
摘要 |
在一实施例中,一种装置具有:一图案化元件支撑件,其包括具有一第一流动限定表面之一第一平面器件;一第二平面器件,其包括面对该第一流动限定表面之一第二流动限定表面;一支撑件驱动器,其用以沿着某一方向相对于该第二平面器件线性地移动该支撑件,其中该第一流动限定表面及/或该第二流动限定表面具有在该第一流动限定表面与该第二流动限定表面之间的一或多个突出物及/或凹部,且其中该第一流动限定表面及/或该第二流动限定表面上之该突出物及/或凹部经配置以在垂直于流动之该第一流动限定表面及/或该第二流动限定表面之每单位宽度提供一流动阻力,相比于抵制垂直于该某一方向之流动之该流动阻力,抵制平行于该某一方向之流动之该流动阻力较低。该等流动限定表面可将气流引导至产生热之一驱动器部件上。 |
申请公布号 |
TWI465860 |
申请公布日期 |
2014.12.21 |
申请号 |
TW101108510 |
申请日期 |
2012.03.13 |
申请人 |
ASML控股公司 荷兰;ASML荷兰公司 荷兰 |
发明人 |
沃格 赫曼;勾森 杰若恩 杰若德;帕休斯 巴特 迪南;凡 波克特 法兰克 乔汉斯 贾柏斯;李景高 |
分类号 |
G03F7/20;H01L21/027 |
主分类号 |
G03F7/20 |
代理机构 |
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代理人 |
林嘉兴 台北市松山区敦化北路201号7楼 |
主权项 |
一种微影装置,其包含:一支撑件,其经建构以支撑一图案化元件,该图案化元件能够在一辐射光束之横截面中向该辐射光束赋予一图案以形成一经图案化辐射光束,该支撑件包含具有一第一流动限定(flow-restricting)表面之一第一平面器件;一投影系统,其经组态以将该经图案化辐射光束投影至一基板之一目标部分上;一第二平面器件,其包含面对该第一流动限定表面之一第二流动限定表面;及一支撑件驱动器,其用以驱动该支撑件相对于该第二平面器件之移动,其中该第一流动限定表面、该第二流动限定表面或该第一流动限定表面及该第二流动限定表面两者包含在该第一流动限定表面与该第二流动限定表面之间的一突出物(projection)及/或凹部,其中该支撑件驱动器经组态以沿着特定一方向相对于该第二平面器件线性地驱动该支撑件,且其中该第一流动限定表面及/或该第二流动限定表面上之该突出物及/或凹部经配置以在垂直于流动之该第一流动限定表面及/或该第二流动限定表面之每单位宽度提供一流动阻力,相比于抵制(against)垂直于该特定一方向之流动之该流动阻力,抵制平行于该特定一方向之流动之该流动阻力较低。 |
地址 |
荷兰 |