发明名称 |
液浸式平版印刷之显影处理方法,使用于该显影处理方法之溶液及使用该显影处理方法之电子装置 |
摘要 |
本发明系一种消除了显影缺陷之用以获得电子装置的液浸式平版印刷之显影方法,其目的在于提供一种简便且低成本、并且能够赋予可进行高速扫描之高斥水性的制程。本发明之目的在于提供一种利用不导入新设备而藉由廉价之材料进行改良之显影处理方法的液浸式平版印刷之显影处理方法,使用于该显影处理方法之溶液及使用该显影处理方法之电子装置,本发明之液浸式平版印刷之显影处理方法系包括利用硷浸渍之显影步骤的电子装置之液浸式平版印刷之显影处理方法,其特征在于包括使用溶解去除溶液而进行之溶解去除步骤,上述溶解去除溶液选择性地溶解去除含有表面偏析剂及化学增幅型光阻之光阻中的表面偏析剂。 |
申请公布号 |
TWI465865 |
申请公布日期 |
2014.12.21 |
申请号 |
TW098121127 |
申请日期 |
2009.06.24 |
申请人 |
瑞萨电子股份有限公司 日本 |
发明人 |
寺井护;萩原琢也;石桥健夫 |
分类号 |
G03F7/32;G03F7/30 |
主分类号 |
G03F7/32 |
代理机构 |
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代理人 |
赖经臣 台北市松山区南京东路3段346号11楼 |
主权项 |
一种液浸式平版印刷之显影处理方法,其系具备含有表面偏析剂及化学增幅型光阻之光阻的电子装置之液浸式平版印刷之显影处理方法,其特征在于:包括利用硷浸渍之显影步骤,前述显影处理方法包括使用溶解去除溶液而进行之溶解去除步骤,前述溶解去除溶液系选择性地溶解去除前述光阻中的前述表面偏析剂;前述表面偏析剂系由具有以下述通式(1)所表示之构成单位的含氟聚合物所构成;前述溶解去除溶液系包括碳数为4以上之醇、碳数为5以上之烷基醚、及含氟溶剂中之至少任一种;-(CH2-C(COOY0Rf)R)- (1)(于上述通式(1)中,R为氢原子、低级烷基、卤素原子或卤化低级烷基,Y0为伸烷基,Rf为氟化烷基)。 |
地址 |
日本 |