| 摘要 |
<p>Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung zum Erzeugen einer Maskenabbildung aus in einer Maske (12) vorgesehenen Strukturen auf einem Substrat (14) mit mindestens einer Belichtungseinrichtung zum Belichten des Substrats (14) mit einem in einer Z-Richtung aus der Belichtungseinrichtung austretenden Strahlen gang, wobei die Form der Maskenabbildung durch Kompensationsmittel abhängig von einem zu kompensierenden Fehler änderbar ist. Weiterhin betrifft die Erfindung ein korrespondierendes Verfahren.</p> |
