发明名称 一种镁砷共掺杂p型氧化锌薄膜的制造方法
摘要 本发明公开了一种镁砷共掺杂p型氧化锌薄膜的制造方法,依次包括:将蓝宝石作为衬底放置到具有无水乙醇的超声波振荡器中进行清洗,去除衬底表面的油脂,再将其放置到具有去离子水的超声波振荡器中进行清洗,去除残余的无水乙醇;将纯度为99.99%的氧化锌粉末、镁的摩尔含量为8-13%的氧化镁粉末以及砷的摩尔含量为0.5-1.5%的氧化砷粉末进行混合,然后压制形成靶材;将衬底放入磁控溅射反应室中,利用射频磁控溅射方法,在惰性气体环境中将靶材溅射沉积在衬底之上,从而在衬底上形成厚度为200-400nm的镁砷共掺杂的p型ZnO晶体薄膜;第五步,将完成第四步的衬底自然冷却。
申请公布号 CN103147042B 申请公布日期 2014.12.17
申请号 CN201310067218.4 申请日期 2013.03.01
申请人 溧阳华晶电子材料有限公司 发明人 钱时昌
分类号 C23C14/08(2006.01)I;C23C14/35(2006.01)I 主分类号 C23C14/08(2006.01)I
代理机构 南京天翼专利代理有限责任公司 32112 代理人 蒋家华
主权项 一种镁砷共掺杂p型氧化锌薄膜的制造方法,依次包括如下步骤:第一步,选取蓝宝石作为衬底1,将该衬底1放置到具有无水乙醇的超声波振荡器中进行清洗,以去除衬底1表面的油脂,然后再将其放置到具有去离子水的超声波振荡器中进行清洗,以去除残余的无水乙醇;第二步,将纯度为99.99%的氧化锌粉末、镁的摩尔含量为8‑13%的氧化镁粉末以及砷的摩尔含量为0.5‑1.5%的氧化砷粉末进行混合,然后压制形成靶材;第三步,将完成第一步工艺的衬底1放入磁控溅射反应室中,利用射频磁控溅射方法,在惰性气体环境中将靶材溅射沉积在衬底之上,从而在衬底1上形成厚度为200‑400nm的镁砷共掺杂的p型ZnO晶体薄膜2;第四步,对完成第三步的衬底1进行热退火,退火气氛为氧气,退火温度为700℃,退火时间为40分钟;第五步,将完成第四步的衬底自然冷却;其中,所述镁砷共掺杂的p型ZnO晶体薄膜中Mg的摩尔百分含量是11%,砷的摩尔百分含量是0.8%,在常温下,镁砷共掺杂的p型ZnO晶体薄膜的压电常数d<sub>33</sub>大于18pC/N,其电阻率大于10<sup>10</sup>Ω·cm。
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