| 摘要 |
a)(y) 광경화성 조성물 층을 형성하고; (bXz) 층의 조성물의 선택된 영역을 방사선원으로부터의 방사선에 의해 조사함으로서, 상기 선택된 영역 내 조성물을 경화시키고, 앞서 경화된 층의 꼭대기에서 a) 및 b) 단계를 반복하여 3차원 구조를 형성하는 순차적인 단계들을 포함하는 광학 성형 방법이 개시되어 있으며, 여기서 단계 b)에서 사용되는 방사선원은 비간섭성 방사선원이고, 광경화성 조성물은 2 이상의 경화성 성분들, 즉 (i) 조성물 중 전체 경화성 성분들의 45 중량% - 95 중량%(바람직하게는 50 중량% 이상, 더욱 바람직하게는 60 중량% 이상, 예를 들어 70 중량% 이상)의, 광경화성이고, 광경화성 개시제의 존재 하에 30 mJ/cm의 에너지를 갖는 UV 방사선에의 노출에 의해 경화되는 경우, 50 밀리초 내에 90% 이상의 성분이 경화되는 첫 번째 성분; 및 (ii) 조성물 중 전체 경화성 성분들 중 5 중량% 내지 55 중량%(바람직하게는 10-40 중량%, 더욱 바람직하게는 15 내지 30 중량%, 예를 들어, 약 20 중량%)의, 경화되었을 때 3% 미만으로 선 방향이 수축되는 조성물을 야기하고, 바람직하게는 경화된 후 50℃ 초과, 바람직하게는 100℃ 이상, 더욱 바람직하게는 120℃ 이상의 T를 갖는 조성물을 야기하는 두 번째 성분을 포함한다. |
