A SUBSTRATE TABLE ASSEMBLY, AN IMMERSION LITHOGRAPHIC APPARATUS AND A DEVICE MANUFACTURING METHOD
摘要
<p>기판 테이블 어셈블리, 액침 리소그래피 장치, 및 디바이스 제조 방법이 개시된다. 기판 테이블 어셈블리는 기판을 지지하는 기판 테이블; 및 상기 기판 테이블과 상기 기판 테이블 상에 장착된 기판 사이의 영역에 기체를 제공하는 기체 처리 시스템을 포함하고, 상기 기체 처리 시스템에 의해 공급되는 기체는 298 K에서 100 mW/(m.K)보다 크거나 그에 동등한 열 전도성을 구비한다.</p>
