基板处理装置、元件制造方法、扫描曝光方法、曝光装置、元件制造系统及元件制造方法

摘要

具备：第1支承构件，系以沿着以既定曲率弯曲成圆筒面状之第1面之方式支承光罩与基板中之一方；第2支承构件，系沿着既定之第2面之方式支承光罩与基板中之另一方；移动机构，使第1支承构件旋转，且使第2支承构件移动，以使光罩与基板移动于扫描曝光方向；投影光学系，藉由包含与垂直于投影区域之扫描曝光方向中心之线大致平行之主光线的投影光束将图案之像形成于既定之投影像面；移动机构，系设定第1支承构件之移动速度及第2支承构件之移动速度，使图案之投影像面与基板之曝光面中曲率较大之面或为平面之侧之移动速度较另一方之移动速度相对小。