| 摘要 |
轨道引导输送机制(2)包括一具有至少三个转子辊(4a、4b、4c)的输送载运器(3)，用于沿着一轨道导引件之滚动输送。该至少三个转子辊(4a、4b、4c)的旋转平面(R)相对彼此被配置在一大于0°且小于180°的角度。该相关输送装置包括复数此输送机制(2)以及具有轨道本体(21)之对应的轨道导引件(20)。该轨道本体(21)包括一具有三个转子表面(27)之轨道本体纵向区段，该等转子表面被配置在该轨道本体(21)的外周边上，且系用于该输送机制(2)之至少三个转子辊(4a、4b、4c)。该三个转子表面的表面法线(F)被配置在彼此大于0°且小于180°之角度。 |
