发明名称 |
包含具有应力通道区之电晶体的设备及其形成方法;DEVICE INCLUDING A TRANSISTOR HAVING A STRESSED CHANNEL REGION AND METHOD FOR THE FORMATION THEREOF |
摘要 |
一种装置包括底材、P通道电晶体以及N通道电晶体。底材包括第一半导体材料的第一层以及第二半导体材料的第二层。第一与第二半导体材料具有不同的晶格常数。P通道电晶体包括在底材之第一部位中具有压缩应力的通道区。P通道电晶体的通道区包括第一半导体材料之第一层的一部分以及第二半导体材料之第二层的一部分。N通道电晶体包括在底材之第二部位中形成具有拉伸应力的通道区。N通道电晶体的通道区包括第一半导体材料之第一层的一部分以及第二半导体材料之第二层的一部分。还揭露的是形成所述装置的方法。 |
申请公布号 |
TW201448171 |
申请公布日期 |
2014.12.16 |
申请号 |
TW103111925 |
申请日期 |
2014.03.31 |
申请人 |
格罗方德半导体公司 |
发明人 |
芮奇史奇 葛德;费拉候史奇 史帝芬;尹葛恩 拉夫 |
分类号 |
H01L27/092(2006.01);H01L21/28(2006.01) |
主分类号 |
H01L27/092(2006.01) |
代理机构 |
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代理人 |
<name>洪武雄</name><name>陈昭诚</name> |
主权项 |
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地址 |
美国 |