发明名称 Microlithographic projection exposure apparatus
摘要 <p>본 발명은 조명 시스템(10) 및 투영 대물렌즈(20)를 포함하는 마이크로리소그래피 투영 노광 장치에 관한 것으로, 투영 노광 장치의 동작시에 상기 조명 시스템(10)은 투영 대물렌즈(20)의 물체 평면을 조명하고 상기 투영 대물렌즈(20)는 물체 평면의 이미지를 이미지 평면에 제공한다. 한 유형에 따르면, 물체 평면에 입사하는 광에 있어서 적어도 하나의 편광 분포에 대해, 물체 평면에서 균질하지 않은 강도 분포가 얻어지도록 상기 조명 시스템(10)에서 편광-의존적인 투과가 형성되며, 여기서 상기 균질하지 않은 강도 분포는 투영 대물렌즈(20)의 편광-의존적인 투과 특성들에 의해 이미지 평면에서 균질한 강도 분포를 가져온다.</p>
申请公布号 KR101472137(B1) 申请公布日期 2014.12.12
申请号 KR20080069592 申请日期 2008.07.17
申请人 发明人
分类号 H01L21/027 主分类号 H01L21/027
代理机构 代理人
主权项
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