| 摘要 |
<p>본 발명은 플라즈마 발생 장치 및 그를 포함하는 기판 처리 장치에 관한 것이다. 본 발명의 일 실시예에 따른 플라즈마 발생 장치는, RF 신호를 제공하는 RF 전원; 상기 RF 신호를 인가받아 챔버에 공급된 가스로부터 플라즈마를 발생시키는 제 1 플라즈마 소스; 상기 RF 신호를 인가받아 상기 챔버에 공급된 가스로부터 플라즈마를 발생시키며, 상기 제 1 플라즈마 소스에 병렬로 연결된 제 2 플라즈마 소스; 상기 제 1 플라즈마 소스의 입력단과 접지 사이에 연결된 제 1 가변 부하; 상기 제 2 플라즈마 소스의 입력단과 접지 사이에 연결된 제 2 가변 부하; 및 상기 제 1 가변 부하 및 상기 제 2 가변 부하의 임피던스를 조절하는 제어기;를 포함할 수 있다.</p> |
