一种提高抛光垫使用寿命的单晶硅晶圆片抛光方法

摘要

本发明涉及一种提高抛光垫使用寿命的单晶硅晶圆片抛光方法。使用有蜡贴片机将硅片贴在陶瓷盘上进行抛光；抛光过程包括粗抛光、中抛光和精抛光；抛光机所使用的粗抛光液、中抛光液和精抛光液温度控制在20-30℃范围内，整个抛光过程中的大盘温度控制在40-60℃范围内；抛光液每使用6-8h更换一次；每抛光40min后，使用圆盘刷对抛光机大盘进行刷洗5min；定期检测和修整抛光机大盘表面平整度，最终保证大盘表面平整度≤1.5μm。采取本抛光方法，抛光垫的使用寿命从50h延长到70h左右。从而解决了抛光垫使用寿命短的问题，降低了硅片抛光的加工成本，提高了劳动生产率，一次合格率仍然可以稳定达到90％以上。

主权项

一种提高抛光垫使用寿命的单晶硅晶圆片抛光方法，其特征在于：使用有蜡贴片机将硅片贴在陶瓷盘上进行抛光；抛光过程包括粗抛光、中抛光和精抛光；抛光机所使用的粗抛光液、中抛光液和精抛光液温度控制在20‑30 ℃ 范围内，整个抛光过程中的大盘温度控制 在40‑60℃范围内；粗抛光液、中抛光液和精抛光液每使用6‑8h更换一次；抛光过程中，每抛光40min后，使用圆盘刷对抛光机大盘进行刷洗5min；定期检测和修整抛光机大盘表面平整度，最终保证大盘表面平整度≤1.5μm。