发明名称 | 半导体器件 | ||
摘要 | 本发明公开一种半导体器件,涉及半导体技术领域。该半导体器件包括:PMOS晶体管,用于处理一个输入信号,PMOS晶体管包括栅极和源极,源极连接到第一电压源;和与PMOS晶体管连接的用于防止PMOS晶体管退化的修复电路,当输入信号是高电平时,修复电路使PMOS晶体管的栅极电压高于第一电压源的电压。本发明的半导体器件,当PMOS晶体管截止时通过修复电路在PMOS晶体管的栅极施加正偏压,加快PMOS晶体管的电学参数恢复,从而提高了PMOS晶体管的性能。 | ||
申请公布号 | CN102760764B | 申请公布日期 | 2014.12.10 |
申请号 | CN201110110159.5 | 申请日期 | 2011.04.29 |
申请人 | 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 | 发明人 | 甘正浩;冯军宏 |
分类号 | H01L29/78(2006.01)I | 主分类号 | H01L29/78(2006.01)I |
代理机构 | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人 | 孙宝海 |
主权项 | 一种半导体器件,包括:第一电压源,用于提供第一电压;PMOS晶体管,用于处理一个输入信号,所述PMOS晶体管包括栅极和源极,所述源极连接到所述第一电压源;第二电压源,用于提供第二电压,其中所述第二电压高于所述第一电压;和与所述PMOS晶体管的栅极连接的用于防止所述PMOS晶体管退化的修复电路,所述修复电路与所述第二电压源连接,所述输入信号通过所述修复电路施加到所述PMOS晶体管;其中,当所述输入信号是高电平时,所述修复电路使所述PMOS晶体管的栅极电压高于所述第一电压;当所述输入信号是低电平时,所述修复电路使所述PMOS晶体管的栅极电压与所述输入信号的电压幅值基本相同。 | ||
地址 | 201203 上海市浦东新区张江路18号 |