发明名称 用于提高光轴耐蚀性和耐磨性的方法
摘要 本发明属于光轴加工技术领域,具体而言,涉及一种用于提高光轴耐蚀性和耐磨性的方法包括以下步骤:(1)将光轴放入空气加热炉,在300-450℃下,预热20-40min(2)将预热后的光轴放入氮碳镧离子渗入炉,在550-630℃下经氮碳镧离子渗剂渗入处理90-150min(3)接着放入离子活化炉,在450-550℃下经离子活化渗剂渗入处理30-90min(4)再放入氧离子渗入炉,在370-430℃下经氧离子渗剂渗入处理15-30min(5)将光轴表面的渗剂清洗干净后并干燥处理(6)放入盛装离子稳定剂的离子稳定化炉,在120-200℃下进行离子稳定化处理20-50min(7)将处理后的光轴浸油处理。
申请公布号 CN104195506A 申请公布日期 2014.12.10
申请号 CN201410443204.2 申请日期 2014.09.02
申请人 成都伍田机械技术有限责任公司 发明人 罗德福;漆世荣
分类号 C23C12/00(2006.01)I 主分类号 C23C12/00(2006.01)I
代理机构 北京超凡志成知识产权代理事务所(普通合伙) 11371 代理人 吴开磊
主权项 用于提高光轴耐蚀性和耐磨性的方法,其特征在于,包括以下步骤:(1)将光轴放入空气加热炉,在300‑450℃下,预热20‑40min;(2)将预热后的光轴放入氮碳镧离子渗入炉,在550‑630℃下经氮碳镧离子渗剂渗入处理90‑150min;(3)接着放入离子活化炉,在450‑550℃下经离子活化渗剂渗入处理30‑90min;(4)再放入氧离子渗入炉,在370‑430℃下经氧离子渗剂渗入处理15‑30min;(5)将光轴表面的渗剂清洗干净后并干燥处理;(6)放入盛装离子稳定剂的离子稳定化炉,在120‑200℃下进行离子稳定化处理20‑50min;(7)将处理后的光轴浸油处理。
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