发明名称 一种研磨垫调整装置
摘要 本实用新型提供一种研磨垫调整装置,至少包含:传动装置,圆盘和光信号探测器,所述圆盘侧面至少设置有一个反射标记。在所述研磨垫调整装置的圆盘侧面设置反射标记用于反射光信号,同时设置光信号传感器用于发射光信号照射圆盘侧面和接收从圆盘侧面反射标记反射的光信号,根据设定的反射标记的个数和接收到的发射光信号的间隔时间,可以计算出圆盘的转速,实现了对圆盘转速的实时监控,能够在圆盘转速异常时及时发现问题,避免了因圆盘的转速异常,使得研磨垫表面存在问题,进而使得研磨后的晶片表面不平整或被刮伤等问题的发生。
申请公布号 CN203993546U 申请公布日期 2014.12.10
申请号 CN201420470413.1 申请日期 2014.08.20
申请人 中芯国际集成电路制造(北京)有限公司 发明人 吴江波;周维娜
分类号 B24B53/017(2012.01)I 主分类号 B24B53/017(2012.01)I
代理机构 上海光华专利事务所 31219 代理人 李仪萍
主权项 一种研磨垫调整装置,其特征在于,所述研磨垫调整装置至少包括:圆盘,所述圆盘侧面至少设置有一个反射标记;光信号探测器,所述光信号探测器至少包含:光信号发射端、光信号接收端和光信号处理模块;其中,所述光信号发射端适于持续地发出光信号照射在圆盘的侧面上;所述光信号接收端适于接收所述反射标记反射的光信号;所述光信号处理模块适于根据所述反射标记的数目及相邻两反射标记反射回来光信号的时间间隔,计算出圆盘自转的转速,并将计算出的转速与预设定转速进行比对。
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