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发明名称
ALUMINIUM OXIDE THIN FILM CONTAINING Ta
摘要
<p>본 발명은 산화 알루미늄의 대체막으로서 유용하고, 산화 알루미늄에 비해 성막 속도가 높아, 생산성이 우수한 신규의 기술을 제공한다. 본 발명의 산화 알루미늄 박막은, Ta를 함유하는 것에 특징이 있다. 상기 산화 알루미늄 박막은, 스퍼터링법에 의해 성막되는 것이 바람직하다.</p>
申请公布号
KR101471254(B1)
申请公布日期
2014.12.09
申请号
KR20120150538
申请日期
2012.12.21
申请人
发明人
分类号
C01F7/02
主分类号
C01F7/02
代理机构
代理人
主权项
地址
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