ＥＵＶ波長域用の反射光学素子、当該素子を製造及び補正する方法、当該素子を備えたマイクロリソグラフィ用投影レンズ、及び当該投影レンズを備えたマイクロリソグラフィ用投影露光装置

摘要

本発明は、基板の表面に施した層構成体を備え、層構成体は、少なくとも１周期の個別層の周期的配列からなる少なくとも１つの層サブシステム３７を備え、周期は、ＥＵＶ波長域で異なる屈折率を有する２つの個別層を含む、ＥＵＶ波長域用の反射光学素子３９であって、基板は、表面から１μｍ〜１００μｍの固定距離における仮想面３０に少なくとも沿って１容量％を超える密度変化を有し、基板は、保護層によって若しくは層構成体の保護層サブシステムによって、又は基板の対応の緻密化表面領域３５によって、ＥＵＶ放射線による長期的な経時劣化又は緻密化に対して保護される、反射光学素子３９に関する。さらに、本発明は、かかる反射光学素子を製造する方法に関する。さらに、本発明は、かかる反射光学素子を補正する方法、かかる光学素子を備えた投影レンズ、及びかかる投影レンズを備えた投影露光装置に関する。【選択図】図３ｃ