成膜装置

摘要

本发明提供一种成膜装置，其能够实现在成膜对象物的成膜面内的膜质分布的均匀化。本发明的成膜装置，在真空腔室（10）内通过等离子束（P）对成膜材料（Ma）进行加热而使其蒸发，并且使成膜材料的蒸发粒子（Mb）附着于成膜对象物（11）上，其构成为具备以下：等离子源（7），在真空腔室（10）内生成等离子束；作为主阳极的主炉缸（17），被填充成为蒸发源的成膜材料，并且向成膜材料导入等离子束或者被导入等离子束；作为辅助阳极的环炉缸（6），配置于主炉缸的周围，并且引导等离子束；及蒸发方向调整部（21），以规定时间间隔改变从蒸发源蒸发的蒸发粒子的方向。

主权项

一种成膜装置，在真空腔室内通过等离子束对成膜材料进行加热而使其蒸发，并且使所述成膜材料的蒸发粒子附着于成膜对象物上，其特征在于，具备：等离子源，在所述真空腔室内生成所述等离子束；作为主阳极的主炉缸，作为蒸发源的所述成膜材料被填充于该主炉缸，并且该主炉缸向所述成膜材料导入所述等离子束或者被导入所述等离子束；作为辅助阳极的环炉缸，配置于所述主炉缸的周围，并且引导所述等离子束；及蒸发方向调整部，以规定时间间隔改变从所述蒸发源蒸发的所述蒸发粒子的方向。