| 发明名称 | 双轴取向聚酯膜和磁记录介质 | ||
| 摘要 | 本发明提供了一种双轴取向聚酯膜，其特别是在作为磁记录介质的基膜使用时，温度、湿度的环境变化或保存造成的尺寸变化小，可以制成错误率少、并且磁头、磁性带体的磨削少、行走耐久性优异的高密度磁记录介质。本发明提供了具有海岛结构、岛部分的平均分散直径为30～200nm，膜的长度方向和宽度方向的至少一方向的湿度膨胀系数为0～6.0ppm/％RH以下的双轴取向聚酯膜。 | ||
| 申请公布号 | CN102459429B | 申请公布日期 | 2014.12.03 |
| 申请号 | CN201080031380.5 | 申请日期 | 2010.05.11 |
| 申请人 | 东丽株式会社 | 发明人 | 光冈秀人;东大路卓司;堀江将人;中森由佳里 |
| 分类号 | C08J5/18(2006.01)I;G11B5/73(2006.01)I | 主分类号 | C08J5/18(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京市中咨律师事务所 11247 | 代理人 | 段承恩;田欣 |
| 主权项 | 一种双轴取向聚酯膜，具有海岛结构，岛部分的平均分散直径为30～200nm，膜的长度方向和宽度方向的至少一方向的湿度膨胀系数为0～6ppm/％RH，含有至少2种聚醚酰亚胺,至少一面的膜表面粗糙度Ra为0.5～20nm，宽度方向的杨氏模量为6～12GPa，且长度方向的杨氏模量和宽度方向的杨氏模量之和为11～20GPa。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||