发明名称 一种用于连续式磁控镀膜生产线的靶装置
摘要 本实用新型公开了一种用于连续式磁控镀膜生产线的靶装置,包括盖板、电擦机构、绝缘机构和靶芯机构,所述靶芯机构的两端分别通过电擦机构和绝缘机构与盖板连接;所述靶芯机构包括靶壳、靶芯、磁钢靶、隔水管和2张密封板,所述靶壳的一端连接于电擦机构,另一端连接于绝缘机构;所述靶芯安装于靶壳内,所述隔水管套于靶芯,所述隔水管的两端通过密封板与靶芯密封连接,所述靶芯、隔水管和密封板形成密封腔,所述磁钢靶安装于靶芯,且所述磁钢靶位于密封腔内。本实用新型的工作可靠性高,制造成本低,且方便安装和维护。
申请公布号 CN203976905U 申请公布日期 2014.12.03
申请号 CN201420356871.2 申请日期 2014.06.30
申请人 肇庆市大力真空设备有限公司 发明人 苏贵方
分类号 C23C14/56(2006.01)I;C23C14/35(2006.01)I 主分类号 C23C14/56(2006.01)I
代理机构 广州市华学知识产权代理有限公司 44245 代理人 裘晖
主权项 一种用于连续式磁控镀膜生产线的靶装置,其特征在于:包括盖板、电擦机构、绝缘机构和靶芯机构,所述靶芯机构的一端通过电擦机构与盖板连接,所述靶芯机构的另一端通过绝缘机构与盖板连接;所述靶芯机构包括靶壳、靶芯、磁钢靶、隔水管和2张密封板,所述靶壳的一端连接于电擦机构,另一端连接于绝缘机构;所述靶芯安装于靶壳内,所述隔水管套于靶芯,所述隔水管的两端通过密封板与靶芯密封连接,所述靶芯、隔水管和密封板形成密封腔,所述磁钢靶安装于靶芯,且所述磁钢靶位于密封腔内。 
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