Methof for forming a suspended portion of a microelectronic and/or nanoelectronic structure in a monolithic part of a substrate

摘要

Procédé de réalisation d'au moins une partie suspendue d'une structure microélectronique et/ou nanoélectronique à partir d'une partie monolithique d'un premier substrat, ledit procédé comportant les étapes:
-réalisation dans le substrat monolithique d'une première gravure sur une première profondeur pour définir la structure suspendue,
- dépôt d'une couche de protection aux moins sur les bords latéraux de la première gravure,
-réalisation d'une deuxième gravure sur une deuxième profondeur dans la première gravure,
- réalisation d'un traitement physicochimique d'au moins une partie de la zone située sous la structure suspendue de sorte à modifier celle-ci, et
- libération de la structure suspendue par retrait de la partie traitée par le traitement physicochimique.