投影透镜装置

摘要

本发明涉及一种使用多个子束(21)对目标(11)进行曝光的带电粒子多子束系统，该系统包含带电粒子源(1)、孔径阵列(4)、子束操纵器、子束阻断器(6)以及投影透镜系统的阵列。该带电粒子源(1)配置成产生带电粒子波束(20)。该孔径阵列(4)配置成从产生的波束定义分离的子束(21)。该子束操纵器配置成将多组子束汇聚向每一组的公共汇聚点。该子束阻断器(6)配置成可控地阻断子束组中的子束。最后，该投影透镜系统的阵列(10)配置成将子束组的未被阻断的子束投射到目标(11)的表面。该子束操纵器还将每个子束组汇聚向对应于投影透镜系统之一的点。

主权项

一种使用多个子束对目标进行曝光的带电粒子多子束系统，该系统包含：至少一个带电粒子源，用于产生带电粒子波束；孔径阵列，用于从所述产生的带电粒子波束定义分离的子束，以从所述产生的带电粒子波束生成多组子束；子束操纵器，用于将每组子束汇聚向汇聚点，其中每组子束被引导向不同的汇聚点；子束阻断器，用于可控地阻断所述多组子束中的子束；以及投影透镜系统的阵列，用于将所述多组子束中的未被阻断的子束投射到所述目标的表面，其中所述子束操纵器用于将所述多组子束中的每一组，朝向与所述投影透镜系统的阵列内的不同投影透镜系统相对应的点汇聚。