发明名称 |
单晶硅片的COP评价方法 |
摘要 |
将作为评价对象的晶片的评价区域沿半径方向以同心圆状分割,设定各分割而成的评价区域的COP个数的上限值,以该上限值为基准进行单晶硅片的合格与否的判定,从而能定量并客观地评价COP,能在明确的基准下给予正确的判定。通过使用该评价方法,能充分适应COP评价(检检测)的自动化、未来晶片的高品质化,能在单晶硅片的制造、半导体器件的制造中得到广泛应用。 |
申请公布号 |
CN101466876B |
申请公布日期 |
2014.12.03 |
申请号 |
CN200780021544.4 |
申请日期 |
2007.05.22 |
申请人 |
上睦可株式会社 |
发明人 |
稻见修一 |
分类号 |
H01L21/66(2006.01)I;C30B29/06(2006.01)I |
主分类号 |
H01L21/66(2006.01)I |
代理机构 |
中科专利商标代理有限责任公司 11021 |
代理人 |
李贵亮 |
主权项 |
一种单晶硅片的COP评价方法,其特征在于,对经铜析出法处理后的晶片进行COP评价,在将被判定为不是结晶育成时引入的COP的图案的所述COP排除而对结晶育成时引入的COP进行评价时,将所述晶片的评价区域沿半径方向以同心圆状分割,对分割而成的各评价区域设定COP个数的上限值,以该COP上限值为基准来进行合格与否的判定,所述铜析出法处理按以下的步骤(i)~(iii)来进行,(i)洗涤晶片,除去外部污染源,(ii)进行热氧化而在晶片表面形成规定厚度的绝缘膜,为了确保晶片下部与下部板间的电接触,通过侵蚀将晶片下部的绝缘膜的一部分剥离,(iii)进行Cu析出处理。 |
地址 |
日本东京都 |