发明名称 | 真空吸盘及装设有真空吸盘的支架型真空吸附设备 | ||
摘要 | 一种真空吸盘及装设有真空吸盘的支架型真空吸附设备,该真空吸盘用以吸附至少一工件,包含有设有入气道的吸盘本体、设于该吸盘本体一侧的吸嘴、以及至少一设于该吸嘴底侧的摩擦垫片。该吸嘴包含有设置于吸嘴底侧的外环部以及内环部。该外环部及该内环部之间包含有由该吸嘴底侧朝该入气道方向渐缩并连通于该入气道的环状气隙,气体经由该入气道向该环状气隙吹出时形成一用以吸附工件的环状真空区域。该工件受该环状真空区域吸附时依靠于该摩擦垫片上可改善需另外调校吸嘴位置及真空吸盘用于吸附工件时需藉由框架固定侧缘始得进行移载程序问题的不足。 | ||
申请公布号 | CN104175320A | 申请公布日期 | 2014.12.03 |
申请号 | CN201310191509.4 | 申请日期 | 2013.05.22 |
申请人 | 由田新技股份有限公司 | 发明人 | 王人杰 |
分类号 | B25J15/06(2006.01)I | 主分类号 | B25J15/06(2006.01)I |
代理机构 | 长沙正奇专利事务所有限责任公司 43113 | 代理人 | 何为;袁颖华 |
主权项 | 一种支架型真空吸附设备,用以吸附并移载至少一工件,该支架式真空吸附设备包含有移动装置,该移动装置包含有至少一横臂以及连接于该横臂以操作该横臂移动的载具;其特征在于,还包括至少二真空吸盘,该吸盘包含有装设于该横臂上的吸盘本体、设置于该吸盘本体一侧的吸嘴、以及设置于吸嘴底侧的摩擦垫片,该吸盘本体包含有入气道,该吸嘴包含有设置于该吸嘴底侧的外环部以及内环部,该外环部及该内环部之间包含有一由该吸嘴底侧朝该入气道方向渐缩并连通于该入气道的环状气隙,气体经由该入气道向该环状气隙吹出时形成用以吸附该工件的环状真空区域,该摩擦垫片设置于该内环部上,该工件受该环状真空区域吸附时依靠于该摩擦垫片上,藉由该工件与该摩擦垫片间的摩擦力抵销该工件所承受的侧向力。 | ||
地址 | 中国台湾新北市中和区连城路268号10-1楼 |