| 摘要 |
<p>플라즈마 챔버에서의 이온 에너지들을 조절하기 위한 시스템, 방법 및 장치가 기술된다. 예시적 방법은, 플라즈마 챔버에 기판을 위치시키고, 플라즈마 챔버에 플라즈마를 형성하고, 주기적 전압 기능을 기판에 인가하기 위해 기판에 대한 파워를 제어가능하게 스위칭하고, 주기적 전압 기능의 다중 사이클에 걸쳐, 시간 평균 베이스로 소망 이온 에너지 분포를 야기하도록 기판의 표면에서의 소망 이온 에너지 분포에 응답하여 주기적 전압 기능을 변조하는 것을 포함한다.</p> |
