曝光方法及曝光装置以及元件制造方法

摘要

为提供一种曝光方法，对于分别设有复数种光阻层之复数个基板，能够顺利的进行液浸曝光。;透过投影光学系统及液体将图案像投影至基板上以进行基板曝光之际，系依基板上的液体接触面所形成的膜构件，决定施加于基板的液浸条件。

主权项

一种液浸曝光装置，系透过投影光学系统与液体使基板曝光，其具备：液浸构件，设于与前述液体接触之前述投影光学系统之光学元件周围，藉由前述液体将液浸区域形成于前述投影光学系统下；载台，载置前述基板，以前述基板相对维持于前述投影光学系统与前述基板之一部分之间之前述液浸区域移动之方式在前述投影光学系统下方移动；以及驱动系统，在前述相对移动中，以根据与前述基板与前述液浸区域之液体之接触角相关之资讯决定之速度及加速度之至少一方驱动前述基板载台。