操作微光刻投射曝光设备的方法及该设备的投射物镜

摘要

一种微光刻投射曝光设备(10)的投射物镜，包含波前校正装置(42)，其包含：第一折射光学元件(44)和第二折射光学元件(54)。第一折射光学元件包含第一光学材料，对于所述设备的工作波长，所述第一光学材料具有随温度增加而减小的折射率。第二折射光学元件包含第二光学材料，对于所述设备的工作波长，所述第二光学材料具有随温度增加而增加的折射率。在所述校正装置(42)的校正模式中，第一加热装置(46；146)在所述第一光学材料中产生非均匀且可变化的第一温度分布，第二加热装置(56；156)在所述第二光学材料中产生非均匀且可变化的第二温度分布。

主权项

一种操作微光刻投射曝光设备(10)的方法，所述方法包含以下步骤：a)提供包含投射物镜(20)的投射曝光设备，所述投射物镜(20)包含波前校正装置(42)，所述装置包含：‑第一折射光学元件(44)，所述第一折射光学元件包含第一光学材料，对于所述设备的工作波长，所述第一光学材料具有随温度增加而减小的折射率，‑第二折射光学元件(54)，所述第二折射光学元件包含第二光学材料，对于所述设备的工作波长，所述第二光学材料具有随温度增加而增加的折射率，b)通过测量和/或模拟来确定所述投射物镜(20)的像差；c)通过考虑步骤b)中确定的所述像差，确定第一位相变化和第二位相变化，其中，如果所述第一位相变化由所述第一折射光学元件(44)产生，而所述第二位相变化由所述第二折射光学元件(54)产生，则步骤b)中确定的所述像差被修改；d)通过使用第一加热装置(46；146)改变所述第一光学材料中的温度分布，产生所述第一位相变化；e)通过使用第二加热装置(56；156)改变所述第二光学材料中的温度分布，产生所述第二位相变化，所述第二加热装置不同于且独立于所述第一加热装置(46；146)。