LITHOGRAPHIEANLAGE UND VERFAHREN

摘要

Lithographieanlage (202) aufweisend: einen Aktor (220), eine erste Komponente (204), eine zweite Komponente (206), wobei die zweite Komponente (206) ein Spiegel ist, welcher mittels des Aktors (220) für einen Betrieb der Lithographieanlage (202) im Raum frei bewegbar ist, eine Kopplungseinrichtung (222), welche dazu eingerichtet ist, die erste und zweite Komponente (204, 206) miteinander zu koppeln, eine Erfassungseinrichtung (230) zur Erfassung einer Bewegung (Z) eines Bodens (200), auf welchem die Lithographieanlage (202) steht, und eine Steuereinrichtung (232), welche dazu eingerichtet ist, die Kopplungseinrichtung (222) in Abhängigkeit von der erfassten Bewegung (Z) des Bodens (200) dazu anzusteuern, eine Bewegung der zweiten Komponente (206) relativ zu der ersten Komponente (204) zu begrenzen.