发明名称 平面パターン化された透明な接触物質の製造方法及び/又はこれを含む電子装置
摘要 <p>【課題】パターン化された実質的に透明な接触フィルムの改善された製造方法を提供する。【解決手段】接触フィルムは、パターン化されて実質的に平面であってもよい。したがって、接触フィルムは、意図的にフォトリソグラフィによって要求され得るような層及び/又はフィルムから任意の物質を除去する工程なしにパターン化してもよい。少なくとも2つの層を含む酸素交換システムが基板に蒸着してもよく、前記層が熱及び/又はエネルギーに選択的に露出されて酸素イオン又は原子が高い生成エンタルピーの層から低い生成エンタルピーの層に伝えられることを容易にできる。特定の場合、このような酸素の伝達はフィルムの選択的な部分の導電性を変えられる。これにより、適切に導電性及び/又は抵抗に対してパターン化された平面接触フィルムを生成することができる。【選択図】図3</p>
申请公布号 JP2014531106(A) 申请公布日期 2014.11.20
申请号 JP20140518590 申请日期 2012.06.07
申请人 发明人
分类号 H01B13/00;B32B7/02;C03C17/245;C03C17/36;G02B5/20;G06F3/041 主分类号 H01B13/00
代理机构 代理人
主权项
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