| 发明名称 | 一种含氚氢同位素气体中氕的快速去除方法 | ||
| 摘要 | 本发明提供了一种含氚氢同位素气体中氕的快速去除方法，依次包括以下步骤：a、钯留滞法降氕装置的漏率检验，充He至1.5MPa，保压60min；b、净化前的预处理；c、净化处理；d、后处理。采用本发明的含氚氢同位素气体中氕的快速去除方法，能够获得低氕含量的含氚氢同位素气体。 | ||
| 申请公布号 | CN104147928A | 申请公布日期 | 2014.11.19 |
| 申请号 | CN201410354818.3 | 申请日期 | 2014.07.24 |
| 申请人 | 中国工程物理研究院材料研究所 | 发明人 | 李嵘;熊义富;蔚勇军;石岩;唐涛;敬文勇;吴文清;何名明;常元庆;郭文胜 |
| 分类号 | B01D59/00(2006.01)I;C01B4/00(2006.01)I | 主分类号 | B01D59/00(2006.01)I |
| 代理机构 | 中国工程物理研究院专利中心 51210 | 代理人 | 翟长明 |
| 主权项 | 一种含氚氢同位素气体中氕的快速去除方法，依次包括以下步骤：a、钯留滞法降氕装置的漏率检验，充He至1.5MPa，保压60min；b、净化前的预处理；c、净化处理；d、后处理。 | ||
| 地址 | 621907 四川省绵阳市江油市华丰新村9号 | ||