发明名称 |
污水浊度激光检测仪 |
摘要 |
本实用新型属于污水浊度检测领域,尤其涉及一种污水浊度激光检测仪,包括外壳及设置其内部的激光模组、恒流源、硅光电池、前置放大器、A/D处理模块、单片机、液晶显示模块、上位机通信模块、按键处理模块、打印模块、查询模块;所述激光模组位于外壳下部,所述恒流源位于激光模组的右侧,所述硅光电池位于激光模组正上方,所述前置放大器位于硅光电池正上方,所述A/D处理模块位于前置放大器,所述按键处理模块位于A/D处理模块上方,所述上位机通信模块位于按键处理模块左侧,所述打印模块位于按键处理模块右侧,所述查询模块位于打印模块右侧,所述单片机位于按键处理模块和打印模块的上部,所述液晶显示模块位于单片机上侧。 |
申请公布号 |
CN203949865U |
申请公布日期 |
2014.11.19 |
申请号 |
CN201420253961.9 |
申请日期 |
2014.05.16 |
申请人 |
天津纳正科技有限公司 |
发明人 |
姜春香;蔡元学 |
分类号 |
G01N21/49(2006.01)I |
主分类号 |
G01N21/49(2006.01)I |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
一种污水浊度激光检测仪,其特征在于:包括外壳及设置其内部的激光模组、恒流源、硅光电池、前置放大器、A/D处理模块、电压源、单片机、液晶显示模块、上位机通信模块、按键处理模块、U盘存储模块、打印模块、查询模块;所述激光模组位于外壳内下部,所述恒流源位于激光模组的右侧,所述硅光电池位于激光模组正上方,所述前置放大器位于硅光电池正上方,所述A/D处理模块位于前置放大器上面,所述按键处理模块位于A/D处理模块上方,所述上位机通信模块位于按键处理模块左侧,所述打印模块位于按键处理模块右侧,所述查询模块位于打印模块右侧,所述单片机位于按键处理模块和打印模块的上部,所述电压源位于单片机右侧,所述电压源右侧设有电源指示灯,所述U盘存储模块位于单片机左侧,所述液晶显示模块位于单片机上侧。 |
地址 |
300000 天津市滨海新区心贻湾1-1-3005 |