发明名称 |
一种MOCVD反应室的流场挡板机构及MOCVD反应室 |
摘要 |
本实用新型涉及一种MOCVD反应室的流场挡板机构,包括挡板主体,所述挡板主体为环形挡板,环形挡板的内部设有挡板冷却液通道,所述环形挡板的顶部环形平面安装多根内设连杆冷却液通道的连杆,所述连杆冷却液通道与挡板冷却液通道相通;该挡板机构还设有通过连接机构安装在环形挡板内环面内侧的多个轴线相同而半径不同的环形的内圈挡板。本实用新型所述的挡板机构能够上下移动,从而能够充分的满足MOCVD自动化生产的要求。内圈挡板的设计能够极大的节约能源,提升反应室内部升降温的速度,并且内圈挡板采用金属薄板制作既方便维护又能够在极低的成本下实现反应室内部流场及热场调整。 |
申请公布号 |
CN203947158U |
申请公布日期 |
2014.11.19 |
申请号 |
CN201420364832.7 |
申请日期 |
2014.07.03 |
申请人 |
中国电子科技集团公司第四十八研究所 |
发明人 |
罗才旺;魏唯;程文进 |
分类号 |
C23C16/18(2006.01)I;C23C16/455(2006.01)I |
主分类号 |
C23C16/18(2006.01)I |
代理机构 |
长沙正奇专利事务所有限责任公司 43113 |
代理人 |
马强 |
主权项 |
一种MOCVD反应室的流场挡板机构,包括挡板主体,其特征是,所述挡板主体为环形挡板(6),环形挡板(6)的内部设有挡板冷却液通道(11),所述环形挡板(6)的顶部环面(5)安装多根内设连杆冷却液通道(10)的连杆(4),所述连杆冷却液通道(10)与挡板冷却液通道(11)相通;该挡板机构还设有通过连接机构安装在环形挡板(6)内环面内侧的多个轴线相同而半径不同的环形的内圈挡板(7)。 |
地址 |
410111 湖南省长沙市天心区新开铺路1025号 |