发明名称 衬底处理装置及使用该装置的衬底处理方法
摘要 提高衬底的加热效率而谋求衬底的升温时间的缩短。衬底处理装置包括:由筒状的反应管(100)和密封盖(110)气密地构成的处理室(30);设于反应管(100)周围的作为加热器的炉体加热部(200);配置在处理室(30)内,且收纳多个玻璃衬底(20)的晶片盒(410);设于反应管(100)内部的被封闭的一侧部的电动风扇(500);以及圆筒形的整流板(430),其在处理室(30)内将在晶片盒(410)上竖立配置的多个玻璃衬底(20)中的配置在最外部位置的玻璃衬底(20)的表面覆盖,且控制成使得朝向电动风扇(500)的扇叶部(510)的气流(Q)沿着反应管(100)的内周面(100a)流动。
申请公布号 CN104160480A 申请公布日期 2014.11.19
申请号 CN201280065144.4 申请日期 2012.12.26
申请人 株式会社日立国际电气 发明人 吉田秀成;国井泰夫;西谷英辅;平野光浩;谷山智志
分类号 H01L21/205(2006.01)I;H01L21/22(2006.01)I;H01L21/324(2006.01)I;H01L31/04(2014.01)I 主分类号 H01L21/205(2006.01)I
代理机构 北京市金杜律师事务所 11256 代理人 陈伟;李文屿
主权项 一种衬底处理装置,其特征在于,包括:反应管,其形成为筒状,且在内部对多个衬底进行成膜处理;气体供给管,其向所述反应管的内部导入用于所述成膜处理的处理气体;排气管,其将所述反应管内部的环境气体排出;加热部,其加热所述反应管;风扇,其使所述反应管内部的环境气体沿着所述衬底的表面强制对流;和整流板,其沿着由所述强制对流产生的所述衬底的表面上的所述处理气体的流动方向延伸,且将所述多个衬底中的配置在最外部位置的所述衬底的表面覆盖,以使在所述多个衬底的外侧,朝向所述风扇流动的所述处理气体沿着所述反应管的内周面流动的方式进行控制。
地址 日本东京都