发明名称 TEM平面样品的制备方法
摘要 本发明提供了一种TEM平面样品的制备方法,包括以下步骤:提供一晶片,所述晶片包括基底和半导体器件层,在所述半导体器件层的上面涂布有机物薄膜,切割涂布有有机物薄膜的晶片形成待测样品,与涂有有机物薄膜的表面相邻的一表面形成保护层,对所述待测样品执行离子减薄,形成TEM平面样品。在本发明提供的TEM平面样品的制备方法中,通过在样品上覆盖一定厚度的有机物薄膜,避免样品制备过程中保护层的材料(Pt或W)溅到样品上,影响样品的观测。由此,平面样品可以得到清晰的TEM图像,实现了用平面样品观察和分析薄膜填充能力的目的,弥补了现有技术中截面样品的分析局限性。
申请公布号 CN104155156A 申请公布日期 2014.11.19
申请号 CN201310178632.2 申请日期 2013.05.14
申请人 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 发明人 赵燕丽;齐瑞娟;王小懿;段淑卿
分类号 G01N1/28(2006.01)I 主分类号 G01N1/28(2006.01)I
代理机构 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 代理人 屈蘅;李时云
主权项 一种TEM平面样品的制备方法,其特征在于,包括:提供一晶片,所述晶片包括基底和半导体器件层;在所述半导体器件层的上面涂布有机物薄膜;切割涂布有有机物薄膜的晶片形成待测样品;与涂有有机物薄膜的表面相邻的一表面形成保护层;对所述待测样品执行离子减薄,形成TEM平面样品。
地址 201203 上海市浦东新区张江路18号