发明名称 |
TEM平面样品的制备方法 |
摘要 |
本发明提供了一种TEM平面样品的制备方法,包括以下步骤:提供一晶片,所述晶片包括基底和半导体器件层,在所述半导体器件层的上面涂布有机物薄膜,切割涂布有有机物薄膜的晶片形成待测样品,与涂有有机物薄膜的表面相邻的一表面形成保护层,对所述待测样品执行离子减薄,形成TEM平面样品。在本发明提供的TEM平面样品的制备方法中,通过在样品上覆盖一定厚度的有机物薄膜,避免样品制备过程中保护层的材料(Pt或W)溅到样品上,影响样品的观测。由此,平面样品可以得到清晰的TEM图像,实现了用平面样品观察和分析薄膜填充能力的目的,弥补了现有技术中截面样品的分析局限性。 |
申请公布号 |
CN104155156A |
申请公布日期 |
2014.11.19 |
申请号 |
CN201310178632.2 |
申请日期 |
2013.05.14 |
申请人 |
中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 |
发明人 |
赵燕丽;齐瑞娟;王小懿;段淑卿 |
分类号 |
G01N1/28(2006.01)I |
主分类号 |
G01N1/28(2006.01)I |
代理机构 |
上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 |
代理人 |
屈蘅;李时云 |
主权项 |
一种TEM平面样品的制备方法,其特征在于,包括:提供一晶片,所述晶片包括基底和半导体器件层;在所述半导体器件层的上面涂布有机物薄膜;切割涂布有有机物薄膜的晶片形成待测样品;与涂有有机物薄膜的表面相邻的一表面形成保护层;对所述待测样品执行离子减薄,形成TEM平面样品。 |
地址 |
201203 上海市浦东新区张江路18号 |