| 发明名称 | 用于注入光刻胶的保护层 | ||
| 摘要 | 提供一种在基片中注入掺杂剂的方法。在该基片上方形成图案化光刻胶掩模，其中该图案化光刻胶掩模具有图案化光刻胶掩模特征。保护层通过执行循环沉积而沉积在该图案化光刻胶掩模上方，其中每个循环包括在光刻胶材料组成的图案化掩模的表面上方沉积沉积层的沉积阶段和提供垂直侧壁的形貌成形阶段。离子束将掺杂剂注入该基片。去除该保护层和光刻胶掩模。 | ||
| 申请公布号 | CN101903978B | 申请公布日期 | 2014.11.19 |
| 申请号 | CN200880123005.6 | 申请日期 | 2008.12.15 |
| 申请人 | 朗姆研究公司 | 发明人 | 安德鲁·R·罗马诺;S·M·列扎·萨贾迪 |
| 分类号 | H01L21/027(2006.01)I;H01L21/265(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/027(2006.01)I |
| 代理机构 | 上海胜康律师事务所 31263 | 代理人 | 周文强;李献忠 |
| 主权项 | 一种在基片中注入掺杂剂的方法，包括：在该基片上方形成图案化光刻胶掩模，其中该图案化光刻胶掩模具有图案化光刻胶掩模特征；通过执行循环沉积将保护层沉积在该图案化光刻胶掩模上，其中每个循环包括：在图案化光刻胶掩模的表面上方沉积沉积层的沉积阶段；以及提供垂直侧壁的形貌成形阶段；使用离子束将掺杂剂注入该基片中；以及去除该保护层和光刻胶掩模。 | ||
| 地址 | 美国加利福尼亚州 | ||